哈納HANNA HI4103固態(tài)膜鎘【Cd】ISE離子選擇復合電極

測量范圍：0.1M to 1×10^-7M、11200 to 0.01 mg/L（ppm）Cd²⁺

溫度范圍：0 to 80 °C；最佳pH范圍：2 to 12 pH；近似斜率@25oC：+27mV

單位轉(zhuǎn)換【Cd²⁺】：M（mol/L）=1.124 x 10⁵ mg/L（ppm）、mg/L（ppm）=8.896x 10^-6 M（mol/L）

干擾物：不得存在銀和汞，任何會生成比硫化鎘更難溶的離子會影響測定結果，長時間浸泡在此類溶液中會損壞電極，
             如：鉛離子、銅離子、三價鐵離子會氧化電極表面造成損壞。
                   會與鎘離子發(fā)生絡合反應的離子如溴、氯、EDTA等會使測量結果降低

適用范圍：水溶液中鎘離子的濃度測量，也可作為指示電極用于鎘離子的EDTA滴定測量

HI4103-11固態(tài)膜鎘【Cd²⁺】ISA離子標準液綜合套裝
該套裝適合固態(tài)膜鎘【Cd²⁺】ISE離子選擇復合電極處理、校準、清洗保存，有效保證測量讀數(shù)準確性和可靠性。
HI4000-00 專用ISA離子強度調(diào)節(jié)液，規(guī)格：460mL；【測量前每100mL標液和樣品加2mL】
HI4003-01 專用鎘【Cd²⁺】ISE標準液，標準值：0.1M，規(guī)格：460mL
HI7072 定制專用電極填充液，成分：1M KNO₃，規(guī)格：30mL×4

HI4000-70 定制專用離子電極打磨拋光帶，規(guī)格：24個/組
電極表面發(fā)生劃傷或氧化后可用拋光帶擦亮電極，清除電極膜表面不均勻顆粒污染，避免電極響應緩慢、讀數(shù)漂移或重復性較差現(xiàn)象發(fā)生。
適用于HI4102、HI4103、HI4107、HI4108、HI4109、HI4111、HI4112、HI4115 離子電極膜表面維護處理

鎘【Cd²⁺】ISE離子選擇復合電極注意事項

? 鎘有毒，避免攝入或皮膚接觸，實驗時采取相應的防護措施。

    濃度低于10-3M（112ppm）的標液需要每天配置，標液保存在塑料瓶中。

? 校準溶液和樣品溶液需要在相同的離子強度條件下測量，ISA必須同時以相同體積添加;校準溶液和樣品溶液需要在相同的溫度下測量。

    校準溶液和樣品溶液需要在相同的攪拌條件下測量，使用磁力攪拌器時，使用絕熱材料避免攪拌器傳熱。
    校準時建議從低濃度標液開始測量，帶數(shù)據(jù)穩(wěn)定后讀數(shù)，濃度越低所需要的穩(wěn)定時間越長。

? 濃度大于0.10M的樣品需要稀釋后測量，對于高離子強度的樣品可以使用標準加入法或滴定法測量。
    使用硝酸和氫氧化鈉調(diào)節(jié)溶液為4.5-7.5pH之間，避免生成氫氧化鎘干擾測定;浸泡在＜10^-3M的標液中有利于提高電極的響應。

    測量不同樣品間隙用去離子水清洗電極并吸干水分，避免交叉污染，注意不要擦到電極膜；如果膜發(fā)生損壞，應及時更換，否則會影響測量結果。

    當電極膜表面在測量過程中被氧化，可放在抗壞血酸等弱還原劑中浸泡幾分鐘。

? 傳感器表面發(fā)生擦傷、凹陷、氧化時會引起讀數(shù)的漂移，可以使用HI4000-70對電極表面進行處理。

    避免溫度的劇烈變化，否則會損壞電極;溫度變化可能會使電極內(nèi)部產(chǎn)生氣泡，輕輕拍打電極即可趕走膜表面的氣泡。

? 使用前撕掉陶瓷結點表面的封口膜，安裝好電極后添加HI7072填充液，測量時將填充口打開。填充液會以緩慢的速度滲出，這是正常的，但是如果滲出速度大于4cm/24h，則需要檢查電極蓋是否擰緊或者電極頭的錐形面有沒有雜物顆粒存在造成縫隙。每天測量前檢查填充液液面，低于填充口2cm以上需要添加填充液。電極內(nèi)部產(chǎn)生結晶時需要更換新的填充液。

    測量數(shù)據(jù)不穩(wěn)定時，檢查電極頭錐形面是否有異物，需要時清潔電極內(nèi)部并更換填充液。

    電極斜率不符合要求時，可將電極浸泡在標準液（＜10^-3M）中一段時間可以改善。

? 電極短期保存可放在稀釋的標準液?。ǎ?0^-3M）中保存,長時間不用應拆分電極，沖洗干凈，用密封膜封住陶瓷結點，給傳感器加上保護蓋，干燥保存。